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材料研究所的PIII实验室里，气氛有些凝重。沈清秋看着最新一批经过氮离子注入处理的基底上沉积的薄膜百格测试结果，秀眉微蹙。
**4B！** 还是4B！氮离子注入并没有带来预期的提升，甚至在某些批次上附着力还略有下降。
“沈工，氩离子我们做到4B已经是极限了，氮离子这条路… 似乎走不通？”助手有些沮丧。
沈清秋没有回答，她调出之前氩离子最佳参数（30KeV, 1E17）下的高倍电镜图，反复对比氮离子处理后的界面。**氩离子注入形成的“强化锚点”层更均匀致密，与薄膜的结合界面模糊而连续；而氮离子注入层则出现了细微的脆性相，界面处甚至有微裂纹！**
“**氮的原子半径小，注入后可能形成了硬脆的氮化铝层，反而损害了韧性，成了薄弱点！**”沈清秋瞬间找到了关键，“方向错了！我们应该回到氩离子，但尝试**梯度注入**！低能量高剂量打底形成强结合层，高能量低剂量浅层注入优化表面状态！”
她立刻调整方案，重新设计注入参数组合。**突破“5B壁垒”的曙光，似乎又回到了氩离子的道路上，但需要更精细的“微雕”工艺。**
就在这时，实验室电话响起，是王干事，语气比平时更严肃：“沈博士，方便来我办公室一趟吗？有些事情… 需要和你非正式地沟通一下。”
沈清秋心中一凛，放下手中的电镜照片。该来的，终究还是更近了一步。
王干事的办公室简洁而肃穆。他给沈清秋倒了杯水，语气尽量平和，但内容却带着无形的压力：
“清秋同志，关于你在‘默灵’期间的工作，以及你家庭背景的补充调查，组织上有了更详尽的结论。”
他顿了顿，看着沈清秋平静但专注的眼睛：
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